金融界2025年7月30日消息，国家知识产权局信息显示，合肥中聚和成光电材料股份有限公司申请一项名为“一种无底切的铜蚀刻液”的专利，公开号CN120384291A，申请日期为2025年04月。

　　专利摘要显示，本发明属于金属蚀刻技术领域，具体公开了一种无底切的铜蚀刻液，按重量百分比计，包括以下组分：10‑22％过氧化氢、1‑5％螯合剂、0.02‑0.5％缓蚀剂、0.05‑1％表面活性剂、1‑4％pH调节剂、0.1‑0.5％增溶剂，余量为去离子水；所述螯合剂由羧甲基纤维素、三乙醇胺‑环氧氯丙烷聚合物和半胱氨酸‑环氧氯丙烷聚合物发生聚合反应而得。本发明提供一种无底切的铜蚀刻液，在过氧化氢的基础上添加螯合剂、缓蚀剂、表面活性剂、增溶剂以及pH调节剂等，调控并稳定蚀刻锥角，保证无底切。

　　天眼查资料显示，合肥中聚和成光电材料股份有限公司，成立于2016年，位于合肥市，是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。企业注册资本6403.8137万人民币。通过天眼查大数据分析，合肥中聚和成光电材料股份有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目30次，财产线条，此外企业还拥有行政许可49个。

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